Leistungsbeschreibung – Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS)
Wir bieten die Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) zur detaillierten Untersuchung der chemischen Zusammensetzung von Festkörperoberflächen an. Das Verfahren ermöglicht eine Analyse der obersten wenigen Nanometer eines Materials und zählt zu den wichtigsten Methoden der Oberflächenchemie.
Durch Bestrahlung der Probe mit Röntgenstrahlung werden Photoelektronen emittiert, deren kinetische Energie gemessen wird. Daraus lassen sich sowohl die Elementzusammensetzung als auch der chemische Bindungszustand der Elemente bestimmen.
Leistungsumfang
- Qualitative und quantitative Elementanalyse von Oberflächen
- Bestimmung chemischer Zustände (Oxidationsstufen, Bindungsformen)
- Analyse im Nanometerbereich (extreme Oberflächenempfindlichkeit)
- Schichtweises Abtragen zur Erstellung von Tiefenprofilen
- Detektion nahezu aller Elemente (außer H und He)
- Hohe Empfindlichkeit bis ca. 0,1 at-%
- Normgerechte Auswertung und Dokumentation der Ergebnisse
Typische Anwendungen
- Oberflächenchemie und Materialentwicklung
- Beschichtungen und Funktionsschichten
- Korrosions- und Oxidationsanalysen
- Halbleiter- und Elektronikindustrie
- Haftungs- und Grenzflächenanalysen
- Forschung und Entwicklung neuer Werkstoffe
Ihr Vorteil
Die XPS-Analyse ermöglicht eine extrem präzise Bestimmung der chemischen Zusammensetzung und Zustände im Nanometerbereich, ideal für anspruchsvolle Oberflächen-, Schicht- und Materialanalysen.